光刻膠剝離液,又稱去膠劑,指能夠去除曝光顯影后殘留在基板上光刻膠的化學(xué)材料。光刻膠剝離液需具備綠色環(huán)保、剝離性強(qiáng)、安全可靠性高、工藝兼容性強(qiáng)等特點,在顯示面板以及集成電路制造過程中擁有廣闊應(yīng)用前景。
按照主要成分不同,光刻膠剝離液可分為堿性水溶型剝離液以及有機(jī)溶劑型剝離液兩種類型。有機(jī)溶劑型剝離液可細(xì)分為二甲基亞砜(DMSO)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-甲基甲酰胺(NMF)等。NMP具備溶解性好、剝離效率高、毒性低、對基片損傷小等優(yōu)勢,為光刻膠剝離液代表產(chǎn)品;NMF主要應(yīng)用于顯示面板光刻膠去除過程中。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《
2025-2030年中國光刻膠剝離液行業(yè)市場深度調(diào)研及發(fā)展前景預(yù)測報告》顯示,光刻膠剝離液作為一種電子化學(xué)品,在顯示面板以及集成電路制造過程中擁有廣闊應(yīng)用前景。在顯示面板領(lǐng)域,光刻膠剝離液可用于去除顯示面板曝光后的光刻膠殘留。近年來,隨著全球顯示面板產(chǎn)業(yè)逐漸向我國大陸轉(zhuǎn)移,我國LCD顯示面板以及OLED顯示面板產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)張。以O(shè)LED顯示面板為例,2024年我國產(chǎn)能占據(jù)全球總產(chǎn)能近五成。未來隨著市場需求逐漸釋放,我國光刻膠剝離液行業(yè)發(fā)展速度將進(jìn)一步加快。
全球光刻膠剝離液主要生產(chǎn)企業(yè)包括日本長瀨產(chǎn)業(yè)株式會社(Nagase)、日本富士膠片控股株式會社(FUJIFILM)、日本東京應(yīng)化工業(yè)株式會社(TOK)、韓國株式會社東進(jìn)世美肯(DONGJIN SEMICHEM)、美國Avantor公司、美國杜邦公司(DuPont)、美國Futurrex公司等。日本富士膠片具備光刻膠剝離液、顯影液等光刻膠配套試劑自主研發(fā)及生產(chǎn)實力,產(chǎn)品已在正性和負(fù)性光刻膠去除過程中獲得廣泛應(yīng)用。
在本土方面,我國光刻膠剝離液市場主要參與者包括興欣新材、澄星股份、飛凱材料、格林達(dá)、聯(lián)卓電子、瑞眾新材等。飛凱材料專注于屏幕顯示材料、半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,其推出的光刻膠剝離液已在半導(dǎo)體先進(jìn)制程中獲得應(yīng)用。
新思界
行業(yè)分析人士表示,光刻膠剝離液作為光刻膠配套試劑,應(yīng)用前景廣闊,行業(yè)發(fā)展速度不斷加快。未來隨著市場需求日益旺盛,我國光刻膠剝離液行業(yè)發(fā)展空間將進(jìn)一步擴(kuò)展。隨著技術(shù)成熟度提升,我國光刻膠剝離液市場參與者數(shù)量不斷增長,未來具備高端產(chǎn)品生產(chǎn)實力的企業(yè)將成為行業(yè)龍頭。
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