三氟化氯是一種化學式為ClF3的無機化合物，常溫下外觀呈無色氣體狀，具有腐蝕性，易于液化，液態三氟化氯外觀呈淺黃綠色液體狀，有較大毒性。根據用途、性能指標不同，三氟化氯可分為電子級三氟化氯、工業級三氟化氯等。
其中工業級三氟化氯主要作為氧化劑用于氟化劑、燃燒劑、推進劑等化工產品生產場景，終端應用領域涉及塑料、化工、冶金、機械、軍工、環保、能源等；電子級三氟化氯主要用于半導體制程的硅片與腔體清洗環節與蝕刻環節，是電子工業常用的一種高性能特氣。
電子級三氟化氯是三氟化氯市場中最具發展潛力的細分品類。目前半導體制程中清洗與蝕刻環節所需主流電子特氣是三氟化氮（NF3），2022年其在全球電子特氣市場占比已超20%。與三氟化氮相比，電子級三氟化氯在使用前無需經過等離子體激化，在室溫下即可與半導體材料進行反應，因此可廣泛用于冷壁CVD腔室清洗場景；同時，使用三氟化氯進行清洗還是一種化學蝕刻過程，其刻蝕去除率可達10μm/min以上。
未來電子級三氟化氯有著廣闊的市場發展潛力。一方面，電子級三氟化氯多用于半導體領域的14nm制程以下芯片制造環節。我國作為全球半導體生產大國，雖然我國芯片制造技術正在不斷進步，14nm制程芯片已實現量產，但14nm制程以下芯片仍處于研發階段，尚未實現規�；慨a。因此，三氟化氯在我國半導體領域有著巨大發展潛力，未來市場需求有望在14nm制程以下芯片量產后實現大幅增長。
新思界
行業分析人士表示，另一方面，電子級三氟化氯技術難度較大，目前全球具備該產品規�；慨a能力的企業僅有日本關東電化、日本旭硝子等少數幾家，總體產量還比較低。但經過不斷研究與發展，我國已有福建德爾科技具備電子級三氟化氯產業化量產能力，成功打破市場壟斷，成為全球除日、美以外第三個實現電子級三氟化氯產業化的國家。未來隨著國產三氟化氯產量不斷提升，其有望滿足后續國內市場持續增加的三氟化氯需求。
