ArF光刻膠是半導體光刻膠的主要產品之一，在半導體領域的應用可靠性較高，且是使用最廣泛的光刻光源。當前半導體制造中主流的工藝仍舊是8寸和12寸晶圓片，因此ArF光刻膠仍舊是市場主要的光刻膠品種，市場占比達到43%，其中在8寸晶圓片中應用最高，占比為23%。
ArF光刻膠是集成電路領域的關鍵原材料，主要用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝，被廣泛應用在高端芯片制造，如5G芯片、邏輯芯片、云計算芯片、AI芯片等領域。ArF光刻膠是目前分辨率最高的光刻膠，其生產技術門檻較高，截止到2019年國內ArF光刻膠完全依賴進口，因此未來進口替代的空間較大。
ArF光刻膠對應的是IC制程節點最為先進的產品，目前甚至能夠應用在7nm節點中，且在EUV技術成熟之前，ArF光刻膠仍將是市場主流產品。隨著雙/多重曝光技術的普及，光刻膠使用次數增長，因此ArF光刻膠的市場規模也將翻倍。
根據新思界產業研究中心發布的
《2021-2025中國ArF光刻膠行業市場現狀綜合研究及投資前景預測報告》顯示，當前國內市場需求的ArF光刻膠主要依賴進口，主要進口自JSR株式會社、東京應化工業、信越化學、信越化學等。ArF光刻膠進口依賴度高，不利于我國半導體產業發展，因此在政策的鼓勵下，部分企業布局在ArF光刻膠的研發領域。當前擁有一定技術實力，且實現了產業化突破的企業有寧波南大光電、上海新陽、北京科華、晶瑞股份、江蘇漢拓、廣州微納光刻材料。而實現規模化量產的企業有寧波南大光電、博康旗下漢拓光學、廣州微納光刻材料。
雖然我國已經實現了ArF光刻膠生產，但國產產品質量差，和進口產品相比存在折射率、光敏度、分辨率等參數差距。但總體來看，ArF光刻膠行業發展較好，隨著半導體產業的快速發展，ArF光刻膠市場需求持續攀升，未來市場發展空間較大。
新思界
產業分析人士表示，光刻膠應用在芯片生產中，受益于人工智能、互聯網等技術的快速發展，芯片產需攀升，ArF光刻膠行業發展前景較好。ArF光刻膠屬于光刻膠中高端產品，技術門檻高，國內市場主要被進口品牌占據，國內企業經過幾年的研究，實現了技術性突破，已有企業達到規模化生產能力，但尚未有商品化產品上市。
