根據輻射源不同，直寫光刻機分為光學直寫光刻機（如激光直寫光刻機）和帶電粒子直寫光刻機（電子束直寫光刻機、離子束直寫光刻機等）。激光直寫光刻機，是一種基于激光光源的無掩膜光刻設備，由激光器、顯示器、CCD攝像機、照明光源等部分組成。激光直寫光刻機具有高精度、高效率等特點，可用于印制電路板（PCB）、顯示面板、集成電路、太陽能電池等的加工。
激光直寫光刻機在電子、光伏、生物醫學等領域廣泛應用。在電子領域中，激光直寫光刻機可用于制作集成電路器件原型、顯示面板所需精細圖形等；在光伏領域，激光直寫光刻機可用于太陽能電池銅電鍍工藝中。
根據新思界產業研究中心發布的
《2025-2029年全球及中國激光直寫光刻機行業研究及十五五規劃分析報告》顯示，隨著技術進步、下游行業持續發展，激光直寫光刻機市場維持增長。2024年全球激光直寫光刻機市場規模約為9億元，預計2025-2031年期間其市場將繼續以5.3%年復合增長率（CAGR）增長。
我國政府部門重視光刻設備行業發展，并出臺多項政策給予支持，例如，《貫徹實施〈國家標準化發展綱要〉行動計劃（2024—2025年）》《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》等。另外，近年來我國激光直寫光刻機相關標準也在逐漸完善，具體包括團體標準《數字化無掩模激光直寫光刻機（T/ZS 0344—2022）》《激光直寫光刻設備（T/SZBX 178—2024）》等。在此背景下，我國激光直寫光刻機行業發展進程進一步加快。
國外激光直寫光刻機生產企業包括ASML公司、Heidelberg、Nikon等。我國激光直寫光刻機研究、生產企業和機構包括浙江大學、洪鐳光學、芯碁微裝、蘇大維格、無錫光刻電子、先地圖像等。浙江大學光電科學與工程學院團隊研發的“超分辨并行激光直寫光刻技術與裝備”，榮獲2024年度中國光學學會科技創新獎特等獎——技術發明獎。
新思界
行業分析人士表示，激光直寫光刻機是直寫光刻機行業細分產品，應用前景廣闊。在政策大力支持、技術進步、下游行業需求不斷增長利好下，激光直寫光刻機行業發展空間將進一步得到拓展。目前，我國有多家企業和機構加大對激光直寫光刻機研發力度，隨著技術持續取得突破，激光直寫光刻機行業發展步伐進一步加快，并朝著高端化方向穩步發展。
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