光刻膠又稱光致抗蝕劑，是利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)。根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域不同，光刻膠可分為PCB光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠以及面板光刻膠等，其中半導(dǎo)體光刻膠又可分為g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠以及EUV光刻膠等類型。半導(dǎo)體是光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，近年來，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模逐漸擴(kuò)大。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《
2021-2026年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場深度調(diào)研及發(fā)展前景預(yù)測報(bào)告》顯示，光刻膠是半導(dǎo)體圖形化工藝最關(guān)鍵的材料之一，近年來，得益于半導(dǎo)體市場發(fā)展，全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模不斷擴(kuò)大，2020年市場規(guī)模達(dá)到17.5億美元左右。我國是全球半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)大國，市場占比達(dá)到32.2%左右，在國家政策引導(dǎo)下，國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)正不斷向好發(fā)展。
半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)能集中度較高，其中頭部企業(yè)包括日本JSR、東京應(yīng)化、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、陶氏化學(xué)等國外企業(yè)以及北京科華微電子、蘇州瑞紅、南大光電等國內(nèi)企業(yè)。半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)具有較高的技術(shù)壁壘和客戶壁壘，受此限制，我國半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品多集中在中低端領(lǐng)域，產(chǎn)品多集中在g/i光刻膠領(lǐng)域，ArFi光刻膠、KrF光刻膠等高端產(chǎn)品產(chǎn)能不足。整體來看，我國高端半導(dǎo)體光刻膠進(jìn)口依賴度較高，高端產(chǎn)品國產(chǎn)替代空間廣闊。
從細(xì)分市場來看，2020年，在全球半導(dǎo)體光刻膠市場中，ArFi光刻膠和KrF光刻膠是市場主流產(chǎn)品，兩者合計(jì)市場占比達(dá)到7成以上。受新冠肺炎疫情、日本福島地震等因素影響，2020年上半年，日本半導(dǎo)體光刻膠市場供應(yīng)緊張，向我國的出口量下降，而與此同時(shí)，隨著國內(nèi)經(jīng)濟(jì)不斷增長，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢較好，國內(nèi)市場對半導(dǎo)體光刻膠的需求不斷增加。在供需不匹配的背景下，國內(nèi)企業(yè)紛紛加快相關(guān)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)能建設(shè)，半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)化進(jìn)程加快。
新思界
行業(yè)分析人士表示，近年來，在國家政策扶持下，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)得到快速發(fā)展，半導(dǎo)體光刻膠市場需求隨之釋放。受技術(shù)限制，國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠主要以g/i光刻膠為主，ArFi光刻膠、KrF光刻膠等產(chǎn)品進(jìn)口依賴度較高，由此來看，我國半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)提升空間廣闊。未來伴隨市場需求升級、企業(yè)研發(fā)實(shí)力增加，半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)高端化發(fā)展趨勢將更加明顯。
