臨界尺寸掃描電子顯微鏡（CD-SEM），指利用掃描電子顯微鏡技術，以納米級分辨率捕獲半導體特征詳細圖像的量測設備。臨界尺寸掃描電子顯微鏡具備量測精度高、景深大、分辨率高、對目標材料損傷小等優勢，在半導體制造領域需求旺盛。
臨界尺寸掃描電子顯微鏡通常由控制系統、電源、電子光學系統、圖像顯示系統、記錄系統、真空系統以及信號檢測系統等組件構成。電子光學系統包括高精度電磁透鏡、偏轉線圈以及電子發射材料。目前，受技術壁壘高、生產成本高等因素限制，我國臨界尺寸掃描電子顯微鏡核心組件高度依賴進口，這將為我國臨界尺寸掃描電子顯微鏡行業發展帶來一定挑戰。
臨界尺寸掃描電子顯微鏡是一種半導體制造過程中使用的量測設備。近年來，隨著AI算力需求增長，半導體制造行業發展前景持續向好。臨界尺寸掃描電子顯微鏡適用于半導體先進封裝工藝、薄膜沉積工藝以及刻蝕工藝中，能夠通過量測半導體器件的結構尺寸和形狀，提升良品率。
根據新思界產業研究中心發布的《
2025年中國臨界尺寸掃描電子顯微鏡（CD-SEM）市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，隨著應用需求日益旺盛，臨界尺寸掃描電子顯微鏡行業發展空間持續擴展。2024年全球臨界尺寸掃描電子顯微鏡市場規模達到近5億美元，同比增長超過5%。預計未來一段時間，隨著半導體產業發展速度加快以及技術進步，臨界尺寸掃描電子顯微鏡市場規模還將進一步增長。預計到2030年，全球臨界尺寸掃描電子顯微鏡市場規模將突破7億美元。
全球臨界尺寸掃描電子顯微鏡市場主要參與者包括日本株式會社日立制作所（Hitachi）、美國KLA公司等。在本土方面，愛立特微電子、東方晶源、上海精測、矽視科技、青田恒韌等為我國已布局臨界尺寸掃描電子顯微鏡行業研發及生產賽道的企業。東方晶源自主研發的臨界尺寸掃描電子顯微鏡，已獲得“第七屆集成電路產業技術創新獎”。
新思界
行業分析人士表示，作為一種半導體量測設備，臨界尺寸掃描電子顯微鏡應用需求旺盛，行業發展前景持續向好。目前，我國臨界尺寸掃描電子顯微鏡行業發展仍面臨諸多問題亟待解決。預計未來一段時間，隨著本土企業持續發力，我國臨界尺寸掃描電子顯微鏡市場國產化進程將進一步加快。
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