勻膠顯影機(jī)為半導(dǎo)體制造工藝重要設(shè)備 全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)為其代表產(chǎn)品

        勻膠顯影機(jī)，指在半導(dǎo)體制造工藝中用于光刻膠涂布和顯影的設(shè)備，通常與光刻機(jī)配套使用。勻膠顯影機(jī)具備控制精度高、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)，對(duì)于半導(dǎo)體器件的質(zhì)量及性能起到重要作用。按照工作方式不同，勻膠顯影機(jī)可分為手動(dòng)勻膠顯影機(jī)、全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)以及半自動(dòng)勻膠顯影機(jī)三種類型。

        全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)為新興勻膠顯影機(jī)，其在安全性、控制精度、自動(dòng)化程度以及工作效率等方面具備優(yōu)勢(shì)，適用于大尺寸晶圓勻膠工藝中。受益于國(guó)家政策支持以及技術(shù)進(jìn)步，我國(guó)勻膠顯影機(jī)行業(yè)逐漸往高質(zhì)量方向發(fā)展，帶動(dòng)全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)市場(chǎng)占比不斷提升。未來(lái)伴隨全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)應(yīng)用需求日益旺盛，我國(guó)勻膠顯影機(jī)行業(yè)發(fā)展速度將有所加快。

        勻膠顯影機(jī)通常由浸沒(méi)式光刻工藝配套單元、晶圓盒工作站、工藝處理單元以及光刻機(jī)聯(lián)機(jī)接口四部分組成。浸沒(méi)式光刻工藝配套單元適用于浸沒(méi)式光刻工藝中；晶圓盒工作站包含機(jī)械手臂以及傳送裝置；工藝處理單元包含顯影單元、冷盤、熱盤、旋涂模塊、增粘模塊等，為勻膠顯影機(jī)核心組成部分；光刻機(jī)聯(lián)機(jī)接口主要負(fù)責(zé)與光刻機(jī)連接，以完成復(fù)雜光刻過(guò)程。

        根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2024-2029年勻膠顯影機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度調(diào)研及投資前景預(yù)測(cè)分析報(bào)告》顯示，勻膠顯影機(jī)為半導(dǎo)體制造工藝中使用的重要設(shè)備，能夠在晶圓片表面均勻涂覆光刻膠，為后續(xù)工藝提供圖案模板。隨著本土企業(yè)持續(xù)發(fā)力，我國(guó)晶圓產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)張，產(chǎn)量不斷增長(zhǎng)。2023年我國(guó)晶圓月均產(chǎn)能達(dá)到近660萬(wàn)片，同比增長(zhǎng)近15%。未來(lái)隨著下游行業(yè)發(fā)展速度加快，我國(guó)勻膠顯影機(jī)市場(chǎng)空間將進(jìn)一步擴(kuò)展。

        全球勻膠顯影機(jī)主要生產(chǎn)商包括日本東京電子、日本迪恩士電子、美國(guó)Laurell等。我國(guó)勻膠顯影機(jī)行業(yè)起步較晚，近年來(lái)在應(yīng)用需求拉動(dòng)下，本土企業(yè)在研發(fā)能力、生產(chǎn)技術(shù)等方面不斷進(jìn)步，帶動(dòng)其高質(zhì)量產(chǎn)品市場(chǎng)占比不斷提升。雷博微電子、芯源微、沙芯科技等為我國(guó)勻膠顯影機(jī)主要生產(chǎn)商。

        雷博微電子為我國(guó)較早布局勻膠顯影機(jī)行業(yè)研發(fā)及生產(chǎn)賽道的企業(yè)之一，其產(chǎn)品主要應(yīng)用于微電子制造領(lǐng)域。新思界行業(yè)分析人士表示，預(yù)計(jì)未來(lái)一段時(shí)間，隨著本土企業(yè)持續(xù)發(fā)力，我國(guó)勻膠顯影機(jī)行業(yè)將逐漸往高質(zhì)量方向發(fā)展。

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