PECVD設備，全稱為等離子體增強化學氣相沉積設備，指利用等離子體來促進化學氣相沉積過程的裝置。與傳統CVD設備相比，PECVD設備具有沉積速率快、可實現低溫操作、適應性強、薄膜質量好等優勢，在顯示器制造、半導體制造以及太陽能電池等領域擁有廣闊應用前景。
PECVD設備通常由等離子體源、反應腔、真空系統、基板加熱器、自動化控制系統、氣體供應系統等組件構成。等離子體源通常為微波、射頻電源等能量源，能夠激發氣體以產生等離子體；反應腔包含等離子體源以及氣體分配系統，為PECVD設備核心組件；真空系統主要用于維持真空環境，通常由壓力控制系統以及真空泵構成。
PECVD設備在眾多領域擁有廣闊應用前景，包括顯示器制造、半導體制造以及太陽能電池等。在顯示器制造領域，PECVD設備可用于沉積顯示面板絕緣層以及透明導電氧化物薄膜（TCO）；在半導體制造領域，其可用于沉積a-Si薄膜、SiN薄膜以及SiO2薄膜等；在太陽能電池領域，其主要用于薄膜太陽能電池制造過程中。根據新思界產業研究中心發布的《
2024-2029年PECVD設備行業市場深度調研及投資前景預測分析報告》顯示，在應用需求拉動下，我國PECVD設備市場規模不斷增長，2023年達到近25億元。
在行業發展初期，受技術壁壘高、生產成本高等因素限制，我國PECVD設備高度依賴進口。全球PECVD設備市場主要集中于歐美以及日本等國家，代表企業包括日本真空技術株式會社（ULVAC JAPAN）、日本東京電子有限公司（Tokyo Electron）、瑞士梅耶博格公司（Meyer Burger）、美國應用材料公司（Applied Materials）、德國Centrotherm公司等。
經過多年發展，我國PECVD設備制造技術不斷進步，其市場國產化進程進一步加快。我國PECVD設備主要生產商包括拓荊科技、盛美上海、微導納米、京山輕機、金辰股份等。拓荊科技具備ALD設備、PECVD設備、SACVD設備及HDPCVD設備等多種薄膜沉積設備自主研發及生產實力，其推出的集成電路PECVD設備已實現產業化應用。
新思界
行業分析人士表示，PECVD設備作為薄膜沉積設備市場主流產品，在眾多領域擁有廣闊應用前景。未來伴隨半導體、光伏發電以及顯示技術行業快速發展，我國PECVD設備市場需求將進一步增長。預計未來一段時間，隨著本土企業持續發力以及技術成熟度提升，我國國產PECVD設備市場空間將有所擴展。
