二羰基環(huán)戊二烯基鈷,也稱二羰基環(huán)戊二烯鈷、CpCo(CO)2,化學(xué)式C7H5CoO2,分子量180.047,CAS號(hào)12078-25-0,常溫下外觀為暗紅色液體狀,有毒性,密度1.35g/cm3,熔點(diǎn)-22℃,沸點(diǎn)139-140℃,閃點(diǎn)26℃,不溶于水,可與多種有機(jī)溶劑混溶,常溫常壓下性質(zhì)穩(wěn)定,但對(duì)空氣、熱、紫外光敏感,具有易燃性,儲(chǔ)存需充氬氣密封,并遠(yuǎn)離火種、熱源。
根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的
《2025年中國(guó)二羰基環(huán)戊二烯基鈷市場(chǎng)專項(xiàng)調(diào)研及企業(yè)“十五五規(guī)劃”建議報(bào)告》顯示,二羰基環(huán)戊二烯基鈷在多種有機(jī)反應(yīng)過(guò)程中具有優(yōu)異的催化活性,特別是在C-H鍵活化反應(yīng)中具有高效性,主要用作有機(jī)合成試劑,應(yīng)用在烷烴氧化、炔烴環(huán)三聚、乙炔低聚、內(nèi)環(huán)加成、烯烴環(huán)化等反應(yīng)過(guò)程中。二羰基環(huán)戊二烯基鈷也可以實(shí)現(xiàn)C-H鍵的羥基化、氨基化等官能化反應(yīng),以及C-H鍵與烯烴、炔烴的偶聯(lián)反應(yīng)。二羰基環(huán)戊二烯基鈷可以用來(lái)合成苯并環(huán)丁烯、環(huán)戊二烯酮、雌酚酮等化合物。
二羰基環(huán)戊二烯基鈷及其衍生物可以應(yīng)用在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,利用原子層沉積(ALD)工藝來(lái)沉積得到氧化鈷薄膜。例如利用二羰基環(huán)戊二烯基鈷的衍生物二羰基三甲基硅基環(huán)戊二烯基鈷作為前驅(qū)體,采用ALD技術(shù)可以制備厚度可控、大尺寸、均勻性好的氧化鈷薄膜。中山大學(xué)申請(qǐng)的“一種鈷基氧化物薄膜的原子層沉積方法”專利,即采用二羰基三甲基硅基環(huán)戊二烯基鈷為金屬前驅(qū)體,采用ALD技術(shù)制備氧化鈷薄膜。
2023年以來(lái),我國(guó)二羰基環(huán)戊二烯基鈷合成方法相關(guān)專利不斷增多,主要有安徽亞格盛電子新材料有限公司、全椒亞格泰電子新材料科技有限公司的“一種制備二羰基環(huán)戊二烯基鈷的方法”與“一種金屬前驅(qū)體有機(jī)羰基鈷類化合物的合成方法及裝置”,上海慶建廷科技有限公司的“一種二羰基環(huán)戊二烯基鈷的制備方法”等。其中,“一種金屬前驅(qū)體有機(jī)羰基鈷類化合物的合成方法及裝置”專利特別適用于二羰基環(huán)戊二烯基鈷的合成。
新思界
行業(yè)分析人士表示,現(xiàn)階段,我國(guó)二羰基環(huán)戊二烯基鈷供應(yīng)企業(yè)主要有南京大學(xué)材料MO源研究開(kāi)發(fā)中心、合肥安德科銘半導(dǎo)體科技有限公司、安徽博泰電子材料有限公司、蘇州源展材料科技有限公司等。此外,浙江先導(dǎo)微電子科技有限公司規(guī)劃建設(shè)的“集成電路關(guān)鍵材料基地產(chǎn)業(yè)化擴(kuò)建項(xiàng)目”已經(jīng)進(jìn)入環(huán)評(píng)價(jià)階段,項(xiàng)目分兩批次建設(shè),第二批次建設(shè)內(nèi)容中包括5噸/年的二羰基環(huán)戊二烯鈷生產(chǎn)能力。
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