光刻膠清洗劑，是一種專門用于去除光刻膠及其殘留物的化學試劑，由強堿、極性有機溶劑和/或水等組成。常用的光刻膠清洗劑為羥胺類和含氟類清洗劑。
光刻膠又稱為光致抗蝕劑，是光刻工藝過程中的抗腐蝕涂層材料。在完成光刻和后續的刻蝕或沉積工藝后，襯底表面會存在殘留的光刻膠，而光刻膠殘留極大地影響后續工藝的精度和可靠性，最終影響器件性能。光刻膠清洗劑能夠有效去除殘留的光刻膠，以及其他刻蝕殘留物，行業具有可觀發展前景。
根據新思界產業研究中心發布的
《2026年中國光刻膠清洗劑市場專項調研及企業“十五五規劃”建議報告》顯示，隨著研究逐漸深入，我國光刻膠清洗劑生產工藝發明專利數量不斷增長，為光刻膠清洗劑產品性能提升和行業技術水平提高提供有力支撐，2020來包括江陰潤瑪電子材料股份有限公司的“一種柔性面板用光刻膠清洗劑及其生產工藝”、江蘇奧首材料科技有限公司的“一種光刻膠清洗劑組合物”、上海新陽半導體材料股份有限公司的“離子注入光刻膠清洗液、其制備方法及應用”等。
光刻膠清洗劑是集成電路、TFT-LCD、OLED、印刷電路板（PCB）等制造過程中的關鍵材料之一，在半導體、平板顯示、精密電子加工等領域廣泛應用。隨著技術進步、半導體等下游行業快速增長，光刻膠清洗劑應用需求將不斷釋放，市場發展空間將持續拓展。
全球光刻膠清洗劑生產企業主要集中在歐洲、美國、日本、中國等地區和國家，包括美國杜邦（DuPont）、德國默克（Merck）、日本東京化成工業株式會社（TCI）、日本長瀨產業株式會社、中國浙江奧首材料科技有限公司、中國安集微電子科技（上海）股份有限公司、中國江陰江化微電子材料股份有限公司等。
歐美日企業研發起步早、技術水平先進，占據全球光刻膠清洗劑市場主要份額。隨著本土企業持續發力，我國光刻膠清洗劑國產替代加快推進中。安集微電子是一家高端半導體材料公司，旗下光刻膠清洗劑、電鍍液、刻蝕液等多項產品實現自主研發，成功打破國外技術封鎖。浙江奧首材料科技研發的“芯片光刻膠清洗劑”，被評定為“化工新材料2024年度創新產品”。
新思界
行業分析人士表示，隨著數字經濟快速發展釋放大量光刻膠應用需求、下游行業對器件性能及質量要求不斷提升，光刻膠清洗劑市場需求將持續旺盛。在國家政策支持、企業研發水平提升等驅動下，我國光刻膠清洗劑行業發展速度將加快。
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