根據曝光波長不同，光刻膠可分為G線光刻膠（436nm）、I線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF光刻膠（193nm）和EUV光刻膠五大類。I線光刻膠，指以365nm波長光作為曝光光源的光刻膠。根據分辨率和應用范圍不同，I線光刻膠分為普通I線光刻膠（分辨率為0.5um）、高分辨I線光刻膠（0.35um）和厚膜光刻膠三大類。
I線光刻膠是芯片制造過程中的關鍵材料，其行業(yè)發(fā)展受到國家政策大力支持。例如，2023年《產業(yè)結構調整指導目錄（2024年本）》《工業(yè)戰(zhàn)略性新興產業(yè)分類目錄（2023）》、2024年《關于做好2024年享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項目、軟件企業(yè)清單制定工作有關要求的通知》等。政策大力支持為我國I線光刻膠行業(yè)提供良好發(fā)展環(huán)境。
根據新思界產業(yè)研究中心發(fā)布的
《2025-2029年全球及中國I線光刻膠行業(yè)研究及十五五規(guī)劃分析報告》顯示，I線光刻膠適用于0.5-0.35μm、0.25μm工藝線寬的光刻需求，在半導體封裝、顯示面板、AI芯片等場景中廣泛應用。根據美國半導體行業(yè)協(xié)會數據顯示，2016-2024年，我國半導體產業(yè)銷售額呈穩(wěn)步上升趨勢，其中2022-2024年持續(xù)超過1800億美元（2023年因行業(yè)低迷除外），是全球最大的半導體市場。半導體產業(yè)規(guī)模擴大，將帶動國內I線光刻膠行業(yè)需求不斷增長。
國外I線光刻膠市場生產企業(yè)多集中在美國、日本等地區(qū)，包括東京應化工業(yè)株式會社、JSR株式會社、信越化學工業(yè)株式會社、富士膠片株式會社等，上述企業(yè)具有技術優(yōu)勢，長期在全球市場上占據主導地位。國內I線光刻膠生產企業(yè)包括北京科華微電子材料有限公司、徐州博康信息化學品有限公司、晶瑞電子材料股份有限公司等。
隨著行業(yè)研究深入，我國相關I線光刻膠專利數量持續(xù)增長，例如，2024年徐州博康信息化學品有限公司的“一種化學放大型I線光刻膠及其制備與使用方法”、2025年上海新陽半導體材料股份有限公司、上海芯刻微材料技術有限責任公司的“一種i線光刻膠及其制備方法和應用”等。
新思界
行業(yè)分析人士表示，I線光刻膠對焦深和曝光寬容度更優(yōu)、抗?jié)穹ǹ涛g性能良好，在半導體封裝、顯示面板、AI芯片等場景中應用廣泛。相較于美國、日本等發(fā)達國家，我國I線光刻膠產業(yè)起步晚，但在國家政策扶持、企業(yè)和相關機構加大研究利好下，近年來我國I線光刻膠國產化率有所增長，目前約為11%。
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